Установка для сверхчистой воды JX - 9200

Установка для сверхчистой воды JX - 9200

Сверхчистая вода относится к воде с очень низким содержанием примесей: ① Неорганические ионизирующие примеси, такие как: Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO И т.д.; Органические вещества, такие как алкилбензолсульфоновая кислота, масло, органическое железо, органический алюминий и другие углеводороды; 3) частицы, такие как пыль, оксид железа, алюминий, коллоидный кремний и т.д.; (4) микроорганизмы, такие как бактерии, планктон и водоросли; Растворимые газы, такие как N2, O2, CO2, H2S и т.д. Содержание ионизирующих примесей в сверхчистой воде измеряется величиной сопротивления воды. Теоретически в чистой воде участвуют только ионы H и OH. Сопротивление сверхчистой воды при 25°C составляет 18,3 (МЭ · см) и, как правило, около 15 - 18 (МЭ · см). Производство может быть настроено в соответствии с различными потребностями и может быть выполнено от 1T / H до 1000T / H.

Классификация оборудования

В соответствии с различными требованиями к технологической воде в различных отраслях промышленности и качеством сырой воды, различные устройства обратного осмоса сверхчистой воды могут быть настроены для достижения стандартов воды.

Технология оборудования для сверхчистой воды

Сверхчистая вода, является общим процессом трудно достичь степени, используя четыре этапа предварительной обработки, технологии обратного осмоса, сверхочистки и послеступенчатой обработки, многоступенчатую фильтрацию, высокопроизводительные ионно - обменные блоки, ультрафильтрационные фильтры, ультрафиолетовые лампы, в дополнение к устройству TOC, электрообессоливающее устройство EDI, полировочно - смешивающее устройство и другие методы обработки, удельное сопротивление до 18.25Mомега * cm (25°C).

Сфера применения

1. Электроника, электричество, гальваническое покрытие, осветительные электроприборы, лаборатории, пищевые продукты, бумага, гелиохимия, строительные материалы, лакокрасочные, аккумуляторные, лабораторные, биологические, фармацевтические, нефтяные, химические, стальные, стеклянные и другие области.

2. Химическая технологическая вода, химические препараты, косметика и другая чистая вода.

3. Монокристаллический кремний, производство полупроводниковых чипов для резки, полупроводниковые чипы, полупроводниковые инкапсуляции, шкафы для выводов, интегральные схемы, жидкокристаллические дисплеи, проводящее стекло, кинескопы, линейные платы, оптическая связь, компьютерные компоненты, чистые продукты конденсаторов и различные компоненты и другие производственные процессы для чистой воды.