Фотоэлектрическое / полупроводниковое оборудование для сверхчистой воды

I. Описание оборудования
Полупроводниковое сверхчистое водное оборудование - это сверхчистое водное оборудование, используемое для очистки деталей производства полупроводников, которое должно соответствовать конкретным стандартам качества воды,Полупроводниковое сверхчистое оборудование должно соответствовать качеству воды в СШАASTMСтандарты качества чистой воды, технические стандарты качества воды для электронной промышленности Китая(18MСнова..cm、15MСнова..cm、10MСнова..cm、2MСнова..cm、0.5MСнова..cm)Показатели чистой воды для полупроводниковой промышленности, стандарты качества воды для интегральных схем. БЭкологически безопасное использование воды в соответствии со стандартами потребленияОсновываясь на этом, в системе оборудования резервуары для воды имеют систему управления уровнем жидкости, насосы имеют устройство защиты от давления, онлайн - прибор контроля качества воды, электрический приемPLCПрограммируемые контроллеры, действительно беспилотные, в то же время в выборе технологических материалов с использованием единого метода рекомендаций и требований клиентов, так что оборудование по сравнению с другими аналогичными продуктами, имеет более высокую рентабельность и надежность оборудования.

II. Стандарты проектирования и основа

1. В соответствии с подробными отчетами о качестве воды, предоставленными пользователями, « индивидуально».

2. Технические условия водоочистного оборудованияJB/T 2932-1999"

3. Стандарты водоочистного оборудования обратного осмосаCJ/T119-2000"

4. Комплект переключателей низкого давления и контрольного оборудованияIEC439-1"

5. ЛабораторияСверхчистая водаТехнические показателиСтандарты《GB6682-2008"

6. Национальный электронный уровеньСверхчистая водаСпецификация "GB/T11446.1-1997"

III. Процесс

1、 Насос давления сырой воды - сырой воды - полидиэлектрический фильтр - фильтр - фильтр активированного угля - мягкий фильтр - прецизионный фильтр - первый уровень обратного осмоса -PHРегулирование - промежуточный бак - вторичный обратный осмос - резервуар для очистки воды - насос для очистки воды -EDIСистема - сверхчистый резервуар - насос чистой воды - полировальная установка - оконечный ультрафильтр - точка воды

IV. Особенности конструкции

1. Система полностью автоматизирована.(В то же время можно также использовать ручное управление), система может быть настроена при работе автоматической обратной промывки, регенерации программы;

2. Элементы соединительных линий выполняются единообразно на заводе, чтобы сократить время установки и ввода в эксплуатацию;

3. Первый уровень обратного осмоса и второй уровень обратного осмоса имеют обратные трубопроводы, а оборудование обратного осмоса оснащено устройством химической очистки;

4. Трубопровод обычно используетсяUPVCМатериал;

5. Интегрированные системы управления и интегрированные системы приборов и т. Д. Для облегчения управления операциями;

6. ROПленкаРегулярная чистка Включить и почистить времяROмембранная функция, удлинениеROСрок службы мембраны;

7. Коэффициент извлечения воды Благодаря специальному технологическому проектированию значительно улучшено оборудованиеКоэффициент окупаемостиДо максимального70%*

8. Оборудование имеет функцию автоматического оповещения о замене расходных материалов, и цикл замены расходных материалов зависит от изменения качества воды и давления, а не от времени использования расходных материалов, учитывая различия в качестве воды в разных местах, дизайн более научный;

9. Функция самозащиты Функция защиты от автоматического останова источника воды с дефицитом воды в то же время имеет функцию автоматического производства воды в резервуаре для воды и автоматического останова полной воды.