Четырехкамерная вакуумная печь HMDS

Компьютерная многопозиционная печь HMDS играет главную роль

Устройство обеспечивает быструю, однородную и экономичную предварительную обработку подложки гексаметилендисиланом (HMDS), тем самым улучшая сцепление подложки с фоторезистом.

Высококачественная фотолитографическая адгезия является основой для всех последующих технологических шагов, только поверхность, полностью покрытая дном, может точно воспроизводить конфокальную диафрагму субмикронного уровня, чтобы избежать краевых разрывов или побочных проблем. Процесс вакуумного отверждения обеспечивает быстрое обезвоживание фундамента, так что отличная связь со слоем HMDS остается стабильной даже после нескольких недель воздействия атмосферной влажности.

Четырехкамерная вакуумная печь HMDSОсобенности процесса

Химическая однородность осадков

Углы соприкосновения лучше.

Обработка влагонепроницаемых поверхностей

Сила сцепления фоторезиста может быть увеличена в 3 - 5 раз

Избегайте образования пустот заполнения (Void) и улучшайте качество передачи графики

Повышение фотосопротивляемости

Меньшее потребление гексаметилдисилана (HMDS)

Применимые отрасли: MEMS, фильтры, усиление, мощность и другие устройства, кристаллические круги, сапфир, стекло, драгоценные металлы, SiC (карбид кремния), Gan (нитрид галлия), ZnO (оксид цинка), GaO (оксид галлия), арсенид галлия, ниобат лития и, фосфид индия, алмазы и другие полупроводниковые материалы третьего поколения.

Четырехкамерная вакуумная печь HMDSСвойства

Объем: 40L * 4, (1 - 12 дюймов продукции и фрагментарной совместимости) можно настроить

Операционное приложение: 4 - разрядное независимое управление

Диапазон температур: RT + 20 - 200°C

真空度： ≤1торр

Автоматизация: Компьютерное управление + управление местоположением MES

Вакуумный насос: безвоздушный вихревой вакуумный насос

Предупреждение об утечке HMDS

Функция напоминания о низком уровне жидкости HMDS

Функция регистрации технологических данных

Программа блокирует защиту и другие функции.